如今，随着芯片越来越重要，相信很多人也听过光刻机，一定意义上来说asml就是光刻机的代名词，据悉截至 2022 年第一季度，asml已出货136个euv系统。
数据显示，nxe:3600d系统每小时可生产160个晶圆 (wph)，速度为30mj/cm，这比 nxe:3400c高18%。二正在开发的 nxe:3800e系统最初将以30mj/cm的速度提供大过195wph的产能，并在吞吐量升级后达到220wph。据介绍，nxe:3600e 将在像差、重叠和吞吐量方面进行渐进式光学改进，而在0.33 na的euv光刻机领域，asml路线图包括到2025年左右推出吞吐量约为220wph的nxe:4000f。
对于0.55 na的光刻机，需要更新的不但是其光刻机系统。同时还需要在光掩模、光刻胶叠层和图案转移工艺等方面齐头并进，才能让新设备应用成为可能。根据asml 在一季度财务会议上披露的数据，公司的目标是在2022年出货55台euv系统，并到2025年实现(最多)90台工具的计划。asml同时还承认， 90台可能超过2025年的实际需求，不过他们将其描述为为满足2030年1万亿美元半导体行业需求所做出的巨大努力。
按照之前的说法，asml正在研发新款光刻机，价值高达4亿美元(约合26亿元人民币)，双层巴士大、重超200吨。原型机预计2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出货。此外，intel是全球第一个下单的公司。所谓high-na也就是高数值孔径，2nm之后的节点都得依赖它实现。
编辑：张书嘉
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